6月2日上午，孙健在办公室，从pN（鲲鹏网）首页上看到一则一百多字的新闻（转载GpN）：尼康45nm干式光刻机横空出世！立马引起了他的眼球，尼康公司今日公开宣布，尼康公司同SELEtE合作，在65nm制程工艺干式光刻机NSR-S308F的基础上，经过一年多的努力，研制成功45nm干式光刻机dSp-100；同时宣布，尼康公司将联合SELEtE、尔必达、东芝、富士通公司，投资2350亿日元（相当于20亿美元），在东京都千代田区建设全球第一条45nm制程工艺的半导体生产线。
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美西方国家发生的大事，中国等东南亚国家发生的大事，在中国或美国的网民，第一时间就能从pN或GpN上看到。
半导体前沿技术公司研发协会（SELEtE）是1996年3月，由富士通、日立、松下、三菱电机、NEc、冲电气、三洋电机、夏普、索尼、东芝、尼康和佳能等13家半导体公司，每家出资5亿日元成立的半导体技术共同开发公司。
美国成立SEmAtEch，致使日本失去半导体行业第一的位置后，成立SELEtE是日本半导体产业界为了重回全球第一所做的尝试，组织采用分层组织结构，领头推动整个研发进展，领导三大前沿技术的研发：前端工艺，后端工艺，用于65nm和45nm制程工艺的光刻和掩模工艺。
尔必达（ELpIdA）如今是日本唯一一家动态随机存取存储器（dRAm）生产企业，1999年由日立、NEc和三菱电机的dRAm业务整合成立，2004年在东京证券交易所主板上剩其dRAm业务占据全球市场份额第三，主要供应戴尔、索尼等pc厂商。
前世没有听过尼康45nm干式光刻机！
全球光刻机的历史进程已经改变！
孙健不仅不担心，反而眼前一亮，bSEc雪藏了一年多的45nm制程的浸润式光刻机tINScAN Nxt:3360i，终于可以光明正大的面世了。
打电话让魏建国了解详细情况？
“董事长，邓院长，尼康dSp-100干式光刻机虽然采用尼康公司自研的157nm波长激光器，但配备尼康公司自研的polano偏振照明系统后，能够满足45nm制程的光刻需求，但同我们的3360i相比，他们有两个短时间很难解决的缺陷，一是氟化钙镜头的良品率低，价格昂贵，导致dSp-100的市场价定价会比我们贵50%左右；二是如今没有同45nm制程干式光刻机相匹配的磁悬浮式双工作台系统，工作效率会低15%左右。虽然尼康公司占据先发优势，但一旦3360i公布于众，英特尔和Amd都不会购买dSp-100。”
魏建国从邓国辉那里得到准确的消息后，向孙健汇报，话语中透着轻松和自信，他们也不担心。
bSEc光刻机研究院从去年4月就已经开始研发32nm制程的浸润式光刻机，今年3月就生产出了试验样机。
去年7月18日，全球第一条65nm半导体生产线在pGcA量产的消息传到尼康公司，上下震动很大，虽然尼康研发成功的65nm制程的干式光刻机NSR-S308F随时可以量产，由于各方面的原因，当时没有国际晶圆厂家愿意订购，力推157nm波长干式光刻机发展方向的顾问吉田一郎召集公司高管商议对策。
现任会长森佳照明坚持沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程干式光刻机，才能一举扭转被动局面，就能继续引领全球光刻机的发展方向；
研究所所长兼副总裁川郁子和财务副总裁兰布林支持森佳照明的决定。
副总裁诺利克建议公司放弃干式光刻机路线，投资研发浸润式光刻机。
常务副总裁原田弘树建议公司两条腿走路。
吉田一郎支持森佳照明等饶意见，抓紧时间研发45nm制程干式光刻机。
去年5月，Nikon研制的NSR-S308F干式光刻机量产，配备尼康公司自研的polano偏振照明系统后，能够满足65nm制程的光刻需求。
SELEtE购买了2台。
“魏总，等dSp-100在市场上发酵一周后，我们再向外公布3360i，7月下旬量产，开始预订。”
按照浸润理论，采用浸润式技术，193nm波长可以穿透纯净水，最高实现22nm的精度，浸润式技术还可以获得更好的景深。不需要真空或氮气条件，不需要更换掩膜，不需要更换光刻胶。
蔡司公司为2250i设计了新的物镜，方便更换镜头，发明了浸润罩(immersion hood)技术，将一片很的水面保持在镜头下方，上下接触而不会溢出。由于光照会影响水的温度，需要保持流水，同时水流控制还要避免旋涡和水泡。
bSEc光刻机研究院研究了杂质的来源，设法将原来的4000个缺陷减少为零。将镜头和晶圆浸水之前，先用表面活性液体浸泡，减少沾染。在晶圆的边缘设置密封环（seal ring)，避免水溢出，消除漩涡，将杂质带走，降低缺陷率。另一个方法是通过曝光流程的优化，大幅度降低不可复原的缺陷数量。
浸润式技术在曝光时需要将镜头和晶圆曝光区域浸入水中，量测时却需要晶圆上没有水。双工作台系统不光将量测和曝光两道工序分开，还将干式量测和浸润曝光分开，几乎是为浸润式光刻机量身定做的。
bSEc光刻机自动化研究所先后为2250i和3360i升级了磁悬浮式双工作台系统。
bSEc在研发成功tINScAN bNt:2250i后，向中国专利局和世界专利局同时申请了9项技术专利，其中2项核心技术专利。
157nm光波的干式光刻机对环境要求相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些。
由于157nm光波存在吸收效应，不能用水作为浸润介质，需要价格昂贵的氟化钙镜头，导致同制程的157nm光刻机比浸润式光刻机贵50%左右。
“好的，董事长！”
魏建国笑了。
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